发明名称 蒸镀装置
摘要 本发明公开了一种蒸镀装置,本发明中,即使相对于基板(12)的蒸镀速度大幅改变,也能够高精度地检测相对于蒸镀速度检测元件(33)的蒸镀速度,恰当地进行蒸镀速度的控制。在真空状态的成膜室(11)内,将具有多个蒸镀喷嘴(15)的分散容器(14)与基板(12)相向地配置,在该分散容器(14)上贯穿设置着检测喷嘴(32),且与检测喷嘴(32)相向地配置着蒸镀速度检测元件(33),设置了使蒸镀速度检测元件(33)相对于检测喷嘴(32)的放出口(32a)接近、离开的蒸镀速度调整机构(34),通过与相对于基板(12)的蒸镀速度对应地调整检测喷嘴(32)的放出口(32a)和蒸镀速度检测元件(33)的距离(L),在蒸镀速度检测元件(33)高精度地检测蒸镀速度。
申请公布号 CN102373434B 申请公布日期 2015.09.23
申请号 CN201010260662.4 申请日期 2010.08.20
申请人 日立造船株式会社 发明人 大工博之;上川健司
分类号 C23C14/54(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I 主分类号 C23C14/54(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 张斯盾
主权项 一种蒸镀装置,该蒸镀装置在保持为真空状态的成膜室内相互相向地配置着具有多个蒸镀喷嘴的分散容器和被蒸镀材,从使蒸镀材料蒸发的蒸发单元到上述分散容器,连接着具有控制阀的材料导入管,其特征在于,在上述分散容器上贯穿设置着检测喷嘴,且与该检测喷嘴相向地配置着检测从该检测喷嘴放出的蒸镀材料的蒸镀速度的蒸镀速度检测元件,相应于对于上述被蒸镀材的蒸镀速度、设置了使上述检测喷嘴的放出口和上述蒸镀速度检测元件的至少一种相对于另一种接近、离开地移动的蒸镀速度调整机构。
地址 日本大阪府