发明名称 一种圆形分布的凸台表面结构的可控温加热盘
摘要 一种圆形分布的凸台表面结构的可控温加热盘,主要解决现有的加热盘及静电卡盘所存在的无法快速、准确控制晶圆温度的问题。它包括中心设有进气孔的加热盘。所述加热盘的表面设有凸台;所述加热盘的外圆制有气体回收孔。上述加热盘表面的凸台是按同心圆形规律分布的;上述凸台的尺寸从中间至边缘逐渐减小。在凸台与凸台的间隙形成导热介质的流动空间,从中间输送到加热盘的边缘区域带走热量,冷却后的气体会再次从加热盘中心流入,以实现导热介质的循环流动,达到精确控制晶圆温度的目的。
申请公布号 CN104928652A 申请公布日期 2015.09.23
申请号 CN201510209102.9 申请日期 2015.04.27
申请人 沈阳拓荆科技有限公司 发明人 陈英男;姜崴;郑旭东;关帅
分类号 C23C16/46(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I 主分类号 C23C16/46(2006.01)I
代理机构 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 代理人 甄玉荃;霍光旭
主权项 一种圆形分布的凸台表面结构的可控温加热盘,其特征在于:它包括中心设有进气孔的加热盘,所述加热盘的表面设有凸台;所述加热盘的外圆制有气体回收孔3。
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