| 摘要 |
<p>본 발명은 배치식 증착층 형성장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 배치식 증착층 형성장치는, 복수의 기판 상에 증착층을 형성하기 위한 배치식 증착층 형성장치로서, 상기 증착층이 형성되는 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버 외측에 배치되고 복수의 기판에 열을 인가하는 히터; 상기 챔버 내측에 배치되고 상기 복수의 기판이 안착되는 기판 서포트; 상기 챔버 내측에 상기 기판 서포트의 중앙을 관통하도록 배치되며 상기 복수의 기판에 대하여 공정 가스를 공급하는 공정 가스 공급부; 상기 공정 가스를 배기하는 공정 가스 배기부; 및 상기 챔버 내측에 배치되고, 금속 소스 내의 금속과 할로겐 포함 가스를 반응시켜서 제1 공정 가스를 생성하고, 상기 제1 공정 가스를 상기 공정 가스 공급부로 공급하는 공정 가스 생성부를 포함하는 것을 특징으로 한다.</p> |
