发明名称 转印方法及转印装置
摘要
申请公布号 TWI500521 申请公布日期 2015.09.21
申请号 TW101139361 申请日期 2012.10.24
申请人 斯克林集团公司 发明人 谷口和隆;川越理史
分类号 B41F16/00;B41M3/12 主分类号 B41F16/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 一种转印方法,其系将作为被转印物之图案或薄膜自承载上述被转印物之承载体转印于基板之特定位置者,其特征为包含:保持工序,其系将于表面形成有第1对准标记之上述基板、与于表面承载上述被转印物及以与上述被转印物相同之材料与上述被转印物一起形成之第2对准标记且具有透光性之上述承载体,在使各自之对准标记形成面彼此对向之状态下邻近保持;拍摄工序,其系自与上述承载体之对准标记形成面相反之表面侧,在拍摄机构之同一视野内隔着上述承载体而拍摄上述第1对准标记及上述第2对准标记;位置检测工序,其系基于所拍摄之图像,检测上述第1对准标记及上述第2对准标记之位置;对准工序,其系基于上述位置检测工序中之检测结果,调整上述基板与上述承载体之相对位置;及转印工序,其系使在上述对准工序中经调整相对位置之上述基板与上述承载体抵接,而将上述承载体表面之上述被转印物及上述第2对准标记转印于上述基板;且形成于上述基板上之上述第1对准标记包含互相隔离配置之复数个图形图案,且该复数个图形图案系以包围可使上述第2对准标记自上述图形图案之各者隔离而配置之对准标记转印区域之方式配置;在上述对准工序中,调整上述基板与上述承载体之相 对位置,而使上述第2对准标记与上述对准标记转印区域中未转印上述第2对准标记之区域对向而定位;在上述转印工序中,使上述第2对准标记在上述对准标记转印区域内自上述复数个图形图案之各者隔离而转印于上述基板。
地址 日本