| 发明名称 |
应用于太阳能电池之强化光吸收薄膜层及其太阳能电池结构与制作方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI501407 |
申请公布日期 |
2015.09.21 |
| 申请号 |
TW101113243 |
申请日期 |
2012.04.13 |
| 申请人 |
明新科技大学 |
发明人 |
周静娟;邱庆祥;顾鸿寿;陈密 |
| 分类号 |
H01L31/0216;H01L31/042 |
主分类号 |
H01L31/0216 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林火泉 台北市大安区忠孝东路4段311号12楼之1 |
| 主权项 |
一种应用于太阳能电池的强化光吸收薄膜层，位于太阳能电池之本质性矽晶薄膜层的表面或底面，其材质是铜铟硫系(CIS-based)或铜铟镓硫系(CIGS-based)直接能隙型半导体材料。
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| 地址 |
新竹县新丰乡新兴路1号 |
