| 主权项 |
一种用以清洁离子注入机的离子源组件之方法，其中该离子源组件包含游离室及在该游离室内所含之一或多种组件，且其中该游离室内部及/或该游离室内所含之一或多种组件在其上具有至少一些在掺杂气体内所含之元素的沉积物，该方法包含：将清洁气体引入该游离室中，该清洁气体包含F2、Ar与O2之混合物，其中F2/[Ar+F2]之莫耳比系从约0.15至约0.25，而O2/[F2+O2]之莫耳比系从约0.25至约0.45；及将该清洁气体与该沉积物在足以从该游离室内部及/或从该游离室内所含之该一或多种组件移出至少部分沉积物之条件下反应，其中至少一部分的该沉积物含有硼。 |
