| 主权项 |
一种供应数个制程流体之设备，其用以处理半导体处理腔室中的基板，包含：一流体供应网路，其系定义于一换向阀与一调整供应阀与数个制程流体供应阀之间；一调整流体供应源，其系透过该调整供应阀连接至该流体供应网路；数个制程流体，其系透过该数个制程流体供应阀连接至该流体供应网路；一处理腔室，其具有一基板支座，该处理腔室更具有一边缘流体供应线路与一中央流体供应线路，该边缘流体供应线路系透过一边缘作动阀连接至该流体供应网路，且该中央流体供应线路系透过一中央作动阀连接至该流体供应网路；其中该换向阀、边缘作动阀、与中央作动阀容许调整流体或制程流体之其中一者流动至该边缘流体供应线路或该中央流体供应线路之其中一者；以及一冲洗泵，其系透过各自的一边缘冲洗阀与一中央冲洗阀连接至该流体供应网路，其中该冲洗泵排空该流体供应网路内的流体。
|
