发明名称 奈米模基底及使用其之奈米模的制造方法
摘要
申请公布号 TWI500979 申请公布日期 2015.09.21
申请号 TW101125333 申请日期 2012.07.13
申请人 LG伊诺特股份有限公司 发明人 金镇秀;刘庆锺;李领宰;李俊
分类号 G02B5/30;B82Y40/00 主分类号 G02B5/30
代理机构 代理人 陈瑞田 高雄市凤山区建国路3段256之1号
主权项 一种奈米模基底包括:一模具格栅层,其系包括至少一第一格栅图案;以及至少一第二格栅图案,形成于该第一格栅图案之上。
地址 南韩