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Offenbart wird ein schwingungskompensiertes optisches System (200) für eine Lithographieanlage (100), aufweisend: ein optisches Element (216), ein Tragelement (206), einen Aktuator (224) zur Aktuierung des optischen Elements (216) relativ zu dem Tragelement (206), ein erstes elastisches Element (218), welches das optische Element (216) mit dem Tragelement (206) koppelt, eine Reaktionsmasse (220), wobei der Aktuator (226) das optische Element (216) mit der Reaktionsmasse (220) koppelt, und ein zweites elastisches Element (222), welches die Reaktionsmasse (220) mit dem Tragelement (206) koppelt, wobei für eine Masse (m1) des optischen Elements (216), eine Steifigkeit (k1) des ersten elastischen Elements (218), eine Masse (m2) der Reaktionsmasse (222) und eine Steifigkeit (k2) des zweiten elastischen Elements (222) gilt: |
