ＥＣＬ製造用の新規ビス−イリジウム錯体

摘要

本発明は、ビス−イリジウムベースの新規なＩｒ（ＩＩＩ）錯体、これらの錯体を用いて製造した標識、およびそのような錯体を製造するための方法に関する。