发明名称 |
Halbleiterbaugruppe und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterbaugruppe |
摘要 |
Eine Halbleiterbaugruppe (24; 26) weist ein Halbleitebauelement (1) mit einem Schaltungsträger (2; 27), einem Halbleiterchip (3) und einer Vielzahl von elektrischen Verbindungen (4) auf. Eine Haftkraftverstärkungsschicht (22) wird zumindest an Bereichen des Halbleiterbauelements (1) abgeschieden und Kunststoff-Vergussmaterial (25) verkapselt zumindest den Halbleiterchip (3), die Vielzahl der elektrischen Verbindungen (4) und die Vielzahl der inneren Kontaktpads (9). Oberflächenbereiche (17) des Halbleiterbauelements (1) werden selektiv aktiviert. |
申请公布号 |
DE112006003861(B4) |
申请公布日期 |
2015.09.17 |
申请号 |
DE20061103861T |
申请日期 |
2006.05.10 |
申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
RIEDL, EDMUND;JORDAN, STEFFEN, DR.;SCHILZ, CHRISTOF MATTHIAS, DR.;WONG, FEE HOON |
分类号 |
H01L23/31;C25D7/12 |
主分类号 |
H01L23/31 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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