用于扩散磷源的源瓶液位传导温控系统及控制方法

摘要

本发明提供一种用于扩散磷源的源瓶液位传导温控方法，包括以下步骤：1）采用传感器模块（2）实时检测源瓶（1）中的液位并获得液位数据；2）建立所述液位数据与所述源瓶内温度的对应关系；3）利用所述液位数据与所述源瓶内温度的对应关系，根据液位的变化调整与所述源瓶连接的控温装置（5），使得所述磷源源瓶中的气态分子密度上升直至不同液位情况下，所述源瓶内的分子密度相近。本发明提高了扩散制程的稳定性，有利于搭配前后端制程。同时不需要对因扩散制程波动而生产出的阻值异常硅片进行重工处理。不需要工程师经常调节炉管各个温区温度，从而可以节省人力。

主权项

用于扩散磷源的源瓶液位传导温控方法，其特征在于，包括以下步骤：1)采用传感器模块(2)实时检测源瓶(1)中的磷源液位并获得液位数据；2)所述传感器模块将所述液位数据传递给液位传导模块；及3)所述液位传导模块将所述液位数据对应得到所述源瓶的环境温度反馈给机台控制模块，所述机台控制模块将所述源瓶的环境温度设置为目标值。