| 发明名称 | 成像光学系统、投射曝光设备、制造组件的方法和组件 | ||
| 摘要 | 本公开提供一种成像光学系统、用于微光刻的投射曝光设备、制造结构化的组件的方法、以及结构化的组件。该成像光学系统例如是一种具有多个反射镜(M1、M2、M3、M4、M5、M6)的成像光学系统(7)，所述多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)，其中仅所述物场(4)和所述像场(8)之间的成像光(3)的光束路径中的最后一个反射镜(M6)具有用于所述成像光(3)通过的通孔(18)。 | ||
| 申请公布号 | CN104914561A | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
| 申请号 | CN201510420110.8 | 申请日期 | 2010.02.02 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 汉斯-于尔根.曼;威廉.乌尔里克;埃里克.洛普斯特拉;戴维.莎弗 |
| 分类号 | G02B17/06(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G02B17/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈金林 |
| 主权项 | 具有多个反射镜(M1、M2、M3、M4、M5、M6)的成像光学系统(7)，所述多个反射镜将物平面(5)中的物场(4)成像为像平面(9)中的像场(8)，－其中仅所述物场(4)和所述像场(8)之间的成像光(3)的光束路径中的最后一个反射镜(M6)具有用于所述成像光(3)通过的通孔(18)。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||