发明名称 | 一种光罩的检测结构及检测方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种光罩的检测结构及检测方法,包括:步骤(a)提供光罩,所述光罩中具有相互隔离的铬晶环组成的铬晶环阵列;步骤(b)在所述光罩中确定检查区域的范围,以将所述铬晶环阵列中最外侧的水平边框和竖直边框设置在所述检查区域以外,设定为非检查区域;步骤(c)在所述光罩中设置第一非检查区域阵列,覆盖所述铬晶环阵列内部所述铬晶环的水平边框和竖直边框,以形成非检查区域;步骤(d)在所述光罩中设置第二非检查区域阵列,覆盖所述铬晶环阵列内部所述铬晶环的斜边边框,以形成非检查区域。所述方法能够保证获得最大的检测区域,以及最小的非检测区域,可以降低缺陷存在的风险,获得更加准确的检测结果。 | ||
申请公布号 | CN104914664A | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
申请号 | CN201410093026.5 | 申请日期 | 2014.03.13 |
申请人 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 发明人 | 凌文君 |
分类号 | G03F1/44(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/44(2012.01)I |
代理机构 | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人 | 董巍;高伟 |
主权项 | 一种光罩的检测方法,包括:步骤(a)提供光罩,所述光罩中具有相互隔离的铬晶环组成的铬晶环阵列;步骤(b)在所述光罩中确定检查区域的范围,以将所述铬晶环阵列中最外侧的水平边框和竖直边框设置在所述检查区域以外,设定为非检查区域;步骤(c)在所述光罩中设置第一非检查区域阵列,覆盖所述铬晶环阵列内部所述铬晶环的水平边框和竖直边框,以形成非检查区域;步骤(d)在所述光罩中设置第二非检查区域阵列,覆盖所述铬晶环阵列内部所述铬晶环的斜边边框,以形成非检查区域。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江路18号 |