一种陶瓷圆顶的清洗装置及清洗方法

摘要

本发明涉及一种陶瓷圆顶的清洗装置，包括清洗箱体，所述清洗箱体的内部设置一隔板，所述隔板与所述清洗箱体的左侧壁平行，且所述隔板的高度小于所述清洗箱体的左侧壁的高度，所述隔板与所述清洗箱体的左侧壁之间形成溢流口；所述清洗箱体的底部设置一超音波机，所述超音波机位于所述隔板和所述清洗箱体的右侧壁之间。本发明还公开了一种的陶瓷圆顶的清洗方法，可以有效去除陶瓷圆顶表面不纯物，符合微米等级集成电路生产需求，成功地开发利用超纯水的洗净工艺，有效去除微米等级附著物，提供优良品质的陶瓷圆顶。

主权项

一种陶瓷圆顶的清洗装置，其特征在于，包括清洗箱体，所述清洗箱体的内部设置一隔板，所述隔板与所述清洗箱体的左侧壁平行，且所述隔板的高度小于所述清洗箱体的左侧壁的高度，所述隔板与所述清洗箱体的左侧壁之间形成溢流口；所述清洗箱体的底部设置一超音波机，所述超音波机位于所述隔板和所述清洗箱体的右侧壁之间；所述陶瓷圆顶放置在所述清洗箱体内，且位于所述隔板和所述清洗箱体的右侧壁之间；所述清洗箱体内盛放有超纯水，且所述陶瓷圆顶浸没在所述超纯水中。