| 发明名称 | 曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明是根据在载台(WST1)上搭载的四个读头(60<sub>1</sub>～60<sub>4</sub>)中、包含互异的一个读头的三个读头所属的第1读头群与第2读头群中所含的读头面对标尺板上对应区域的区域(A<sub>0</sub>)内，使用第1读头群所得的位置信息驱动载台(WST1)，并使用以第1及第2读头群所得的位置信息求出对应的第1及第2基准坐标系(C<sub>1</sub>、C<sub>2</sub>)间的偏差(位置、旋转、定标的偏差)。使用该结果修正使用第2读头群所得的测量结果，据以修正第1及第2基准坐标系(C<sub>1</sub>、C<sub>2</sub>)间的偏差、以及四个读头(60<sub>1</sub>～60<sub>4</sub>)的分别面对的标尺板上的区域彼此间的偏差伴随的测量误差。 | ||
| 申请公布号 | CN102625924B | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
| 申请号 | CN201080037584.X | 申请日期 | 2010.08.24 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 柴崎祐一 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 马景辉 |
| 主权项 | 一种使物体曝光的曝光方法，该曝光方法包含：在设于沿预定平面移动的移动体的复数个读头中、包含至少一个互异读头的复数个读头分别所属的复数个读头群与该移动体外部配置成与该预定平面大致平行的测量面的对应区域分别面对的该移动体的第1移动区域内，求出分别对应该复数个读头群的复数个不同基准坐标系间的偏差的修正信息的动作；以及在该第1移动区域内，使用属于该复数个读头群的各个的复数个读头求出该移动体的位置信息，使用该位置信息与和该复数个读头群的读头群分别对应的复数个不同基准坐标系间的偏差的该修正信息驱动该移动体，以使保持于该移动体的物体曝光的动作。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||