发明名称 |
用以在雷射产生电浆极紫外线(EUV)光源中递送源材料之装置及方法;APPARATUS FOR AND METHOD OF SOURCE MATERIAL DELIVERY IN A LASER PRODUCED PLASMA EUV LIGHT SOURCE |
摘要 |
本发明揭露一种使气体平行于一源材料流而流动以形成一气体护罩的装置及方法。该气体护罩可保护源材料流不被一交叉气流中断。该气体护罩亦可限制该源材料通过之一实体护罩的加热且藉由使在照射该源材料时形成之一电浆泡变形使得该电浆泡不会太靠近该实体护罩来限制源材料堆积在该实体护罩上。本发明亦揭露一种用以产生另一横向气流使得该气体护罩不会造成源材料污染被用来聚集在照射该源材料时产生之光之一光学件的装置及方法。 |
申请公布号 |
TW201535060 |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
申请号 |
TW103136609 |
申请日期 |
2014.10.23 |
申请人 |
艾司摩尔荷兰股份有限公司 ASML NETHERLANDS B. V. |
发明人 |
伊凡斯 大卫R EVANS, DAVID R.;葛拉汉 马修R GRAHAM, MATTHEW R.;艾瑟夫 亚历山大I ERSHOV, ALEXANDER I. |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);H05G2/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
恽轶群陈文郎 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 NL |