发明名称 |
自动对位机构以及设有该自动对位机构的曝光机 |
摘要 |
本实用新型公开了一种自动对位机构,包括基座组件、对位支架以及角度调节装置,所述角度调节装置设置在基座组件上,所述角度调节装置包括驱动件、转动体一以及第一驱动装置,所述转动体一的外周面与所述对位支架一端的端面接触,所述第一驱动装置驱动驱动件前进带动所述转动体一进行转动时,所述转动体一的外周面与所述对位支架接触时产生推压力,所述推压力作用在所述对位支架上,驱动对位支架相对基座组件转动a的角度,所述a为(-1-1)°。还公开了一种曝光机,包括曝光机主体、光源装置、控制系统以及自动对位机构,所述自动对位机构安装在曝光机主体上。本实用新型的曝光机通过该对位机构自动调节安装位置,结构简单,稳定性好,调节精度高。 |
申请公布号 |
CN204650131U |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
申请号 |
CN201520161531.9 |
申请日期 |
2015.03.20 |
申请人 |
浙江欧视达科技有限公司 |
发明人 |
张方德;谢桂平 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国商标专利事务所有限公司 11234 |
代理人 |
宋义兴 |
主权项 |
一种自动对位机构,包括基座组件(100)以及可转动设置在基座组件(100)上的对位支架(200),其特征在于:还包括调节对位支架(200)相对基座组件(100)转动的角度调节装置(300),所述角度调节装置(300)设置在所述基座组件(100)上,所述角度调节装置(300)包括与基座组件(100)成滑动配合连接的驱动件(101)、设置在驱动件(101)上的转动体一(103)以及用于驱动所述驱动件(101)平移的第一驱动装置(104),所述转动体一(103)的外周面与所述对位支架(200)一端的端面相接触,所述第一驱动装置(104)驱动所述驱动件(101)前进带动所述转动体一(103)进行转动时,所述转动体一(103)的外周面与所述对位支架(200)接触时产生推压力,所述推压力作用在所述对位支架(200)上,驱动对位支架(200)相对基座组件(100)转动a的角度,所述a为(‑1‑1)°。 |
地址 |
325011 浙江省温州市温州高新产业园区10号小区(三期标准厂房)G-502室 |