用于原子层沉积的装置及方法

摘要

一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：注入头，所述注入头包括配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从前驱供给口经由沉积空间到前驱排放口的前驱气流；沉积空间在使用时由注入头和衬底表面界定；包括轴承气体注入器的气体轴承，该轴承气体注入器安排成在注入头与衬底表面之间注入轴承气体，因此该轴承气体形成气体轴承；以及传送系统，该传送系统提供衬底和注入头沿着衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送衬底的传送平面。将支承部分安排成与注入头相对，该支承部分被构造成提供在传送平面中平衡注入头气体轴承的气体轴承压强布局，以便衬底被所述气体轴承压强布局无支承地保持在注入头与支承部分之间。

主权项

一种用于在片状衬底的表面上的原子层沉积的装置，其包括：‑注入头，所述注入头包括：○配有前驱供给口和前驱排放口的沉积空间；所述供给口和排放口被安排成提供从所述前驱供给口经由所述沉积空间到所述前驱排放口的前驱气流；所述沉积空间在使用时由所述注入头和所述衬底表面界定；和○包括轴承气体注入器的气体轴承，该轴承气体注入器安排成在所述注入头与所述衬底表面之间注入轴承气体，因此该轴承气体形成气体轴承；‑传送系统，该传送系统提供所述衬底和所述注入头沿着所述衬底的平面的相对运动，以便形成沿其传送所述衬底的传送平面；以及‑安排成与所述注入头相对的支承部分，该支承部分被构造成从所述衬底的相对于所述注入头气体轴承的相对侧提供气体轴承压强布局，所述气体轴承压强布局提供在所述传送平面中平衡所述注入头气体轴承的压强，以便所述衬底被所述气体轴承压强布局无支承地保持在所述注入头与所述支承部分之间；其中，所述气体轴承相对于所述衬底限定间隙距离，所述间隙距离与在使用时在所述气体轴承压强布局中提供的气体轴承压强结合提供所述气体轴承的在10³和10¹⁰N/m³之间的刚度。