| 摘要 |
<p>대면적 기판 처리 장치는 서셉터, 가스 박스 및 다수의 샤워 헤드들을 포함한다. 서셉터에는 다수의 기판들이 대면적 구조로 배열된 트레이가 놓여진다. 가스 박스는 서셉터의 상부에 배치되며, 외부로부터 제공되는 반응 가스를 기판들로 분사하여 처리하는 다수의 디퓨져들을 갖는다. 샤워 헤드들은 서셉터와 가스 박스의 사이에서 서로 인접하게 배치되어 가스 박스에 결합되고, 각각은 반응 가스가 기판들로 균일하게 제공되도록 다수의 관통홀들을 갖는다. 이에, 디퓨져들은 샤워 헤드들과 일대일로 대응하도록 구성되어 반응 가스를 샤워 헤드들 각각으로 분사한다. 따라서, 샤워 헤드들의 열팽창 비율을 감소시킬 수 있다.</p> |
