发明名称 半导体装置
摘要 为了提供ESD耐受能力高的半导体装置,多个源布线(22)分别由相同形状的金属膜构成,使多个源(12)分别与接地电压布线(22a)电连接,多个漏布线(23)分别由相同形状的金属膜构成,使多个漏(12)分别与输入电压布线(23a)电连接,多个栅布线(21)分别由相同形状的金属膜构成,使多个栅(11)分别与接地电压布线(22a)电连接。而且,背栅布线(24)由金属膜构成,使背栅(14)与接地电压布线(22a)电连接,背栅布线(24)从源(12)上的源布线(22)分离。
申请公布号 CN104919577A 申请公布日期 2015.09.16
申请号 CN201380070544.9 申请日期 2013.12.20
申请人 精工电子有限公司 发明人 岛崎洸一;广濑嘉胤
分类号 H01L21/336(2006.01)I;H01L21/822(2006.01)I;H01L21/8234(2006.01)I;H01L27/04(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I 主分类号 H01L21/336(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 李辉;黄纶伟
主权项 一种半导体装置,其具备ESD保护电路用的NMOS晶体管,其中,该半导体装置具有:所述NMOS晶体管,其具备:交替配置的多个源和多个漏、形成于所述源与所述漏之间的多个且为偶数个的沟道、设于所述多个且为偶数个的沟道之上的多个栅、以及配置于所述多个源中最端部的所述多个源的附近的背栅;接地电压布线,其与外部连接用的接地电压焊盘电连接;输入电压布线,其与外部连接用的输入电压焊盘电连接;多个源布线,其分别由相同形状的金属膜构成,使所述多个源分别与所述接地电压布线电连接;多个漏布线,其分别由相同形状的金属膜构成,使所述多个漏分别与所述输入电压布线电连接;多个栅布线,其分别由金属膜构成,使所述多个栅分别与所述接地电压布线电连接;以及背栅布线,其由金属膜构成,且从所述多个源布线分离,使所述背栅与所述接地电压布线电连接。
地址 日本千叶县