发明名称 钝化层之制造方法;METHOD FOR MANUFACTURING PASSIVATION LAYER
摘要 一种钝化层之制造方法,其包含下列步骤。提供薄膜电晶体元件。薄膜电晶体元件包含氧化铟镓锌层。利用矽铝靶材进行溅镀制程,以形成钝化层覆盖在氧化铟镓锌层上。矽铝靶材由铝与矽所组成,且溅镀制程之制程气体包含氧气与氩气。
申请公布号 TW201534746 申请公布日期 2015.09.16
申请号 TW103109653 申请日期 2014.03.14
申请人 中国钢铁股份有限公司 CHINA STEEL CORPORATION 发明人 董寰乾 TUNG, HUANCHIEN;黄宏胜 HUANG, HUNGSHENG;余建辉 YU, CHIENHUI;张鼎张 CHANG, TINGCHANG
分类号 C23C14/34(2006.01);C23C14/06(2006.01);H01L29/786(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财李世章
主权项
地址 高雄市小港区中钢路1号 TW