| 发明名称 | 反应腔室以及等离子体加工设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种反应腔室以及等离子体加工设备，其包括设置在反应腔室内部的承载装置，以及环绕在反应腔室的内侧壁上部的上内衬，在上内衬的底端设置有环绕在反应腔室的内侧壁与承载装置之间的环形挡板，在环形挡板上表面上均匀分布有多个贯穿其厚度的条状通孔。本发明提供的反应腔室，其不仅可以满足在反应腔室的腔室压力较低的前提下，同时具有较大的气体流量的要求，而且还可以提高等离子体的分布对称性和均匀性。 | ||
| 申请公布号 | CN104916564A | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
| 申请号 | CN201410092873.X | 申请日期 | 2014.03.13 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 彭宇霖;邢涛 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种反应腔室，包括设置在所述反应腔室内部的承载装置，以及环绕在所述反应腔室的内侧壁上部的上内衬，在所述上内衬的底端设置有环绕在所述反应腔室的内侧壁与所述承载装置之间的环形挡板，其特征在于，在所述环形挡板上表面上均匀分布有多个贯穿其厚度的条状通孔。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||