| 发明名称 |
Ｗ－Ｎｉ溅镀靶;W-NI SPUTTERING TARGET |
| 摘要 |
本发明系关于制造W-Ni溅镀靶之方法以及其用途。本发明同样系关于含有45wt%至75wt% W、余量Ni及一般杂质之溅镀靶，其含有Ni(W)相、W相且不含或含有小于10%金属间相。 |
| 申请公布号 |
TW201534744 |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
| 申请号 |
TW103138686 |
申请日期 |
2014.11.07 |
| 申请人 |
攀时欧洲公司 PLANSEE SE |
发明人 |
林克 克里斯汀 LINKE, CHRISTIAN;薛惹 托马士 SCHERER, THOMAS |
| 分类号 |
C23C14/14(2006.01);C23C14/34(2006.01);G02F1/15(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/14(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰林景郁 |
| 主权项 |
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| 地址 |
奥地利 AT |
