发明名称 膜阵列的形成及其装置
摘要 一种包含两亲性分子的膜阵列使用包含限定区室阵列的支撑物的装置而形成。包含极性介质的体积提供于各个区室内并且提供含非极性介质的层延伸通过具有所述体积的开孔。极性介质流过所述支撑物以取代非极性介质并与所述体积接触形成层,在所述界面上形成含两亲性分子的膜。在所述装置的一种构造中,所述支撑物包含的分隔件含有内部部分和外部部分。所述内部部分限定其间无能够阻止包含容纳于邻近的内部凹陷内的极性介质的体积彼此接触的间隙的内部凹陷。所述外部部分从所述内部部分向外延伸并具有容许非极性介质流过所述基底的间隙。
申请公布号 CN104918696A 申请公布日期 2015.09.16
申请号 CN201380068197.6 申请日期 2013.10.23
申请人 牛津楠路珀尔科技有限公司 发明人 詹森·罗伯特·海德;佩德罗·米格尔·奥尔蒂斯·巴阿蒙;克莱夫·加文·布朗;安德鲁·约翰·赫伦;保罗·雷蒙德·麦基特
分类号 B01J19/00(2006.01)I;B01L3/00(2006.01)I;G01N33/487(2006.01)I 主分类号 B01J19/00(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 张英;宫传芝
主权项 一种形成包含两亲性分子的膜阵列的方法,所述方法包括:提供包含支撑物的装置,所述支撑物限定具有极性介质可以通过其引入的开孔的区室阵列;将极性介质和非极性介质布置于所述支撑物上以在各个区室内提供含极性介质的体积,从而使所述含极性介质的体积受限而不会接触在邻近区室中含极性介质的体积,而包含非极性介质的层延伸穿过所述支撑物中的开孔与所述含极性介质的体积接触;和将极性介质流动穿过所述支撑物中的开孔以取代非极性介质,并且形成延伸穿过所述支撑物中的开孔与所述含极性介质的体积接触的含极性介质的层,和在所述含极性介质的层与所述含极性介质的体积之间的界面上含两亲性分子的膜。
地址 英国牛津