发明名称 |
膜形成方法及膜形成装置 |
摘要 |
本发明提供一种膜形成方法及膜形成装置,该膜形成方法中,即使增加膜厚,侧面的倾斜也不易变平缓。沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘,使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化,从而形成外缘部,之后,通过在比外缘部更靠内侧的区域,使膜材料液滴化后进行涂布并使该膜材料固化来形成内侧部,由此形成由外缘部及内侧部构成且上表面凹陷的单元层。在单元层之上进一步堆积分别由外缘部及内侧部构成的其他单元层,且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状。 |
申请公布号 |
CN104907227A |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
申请号 |
CN201410683427.6 |
申请日期 |
2014.11.24 |
申请人 |
住友重机械工业株式会社 |
发明人 |
冈本裕司 |
分类号 |
B05C9/14(2006.01)I;B05C5/00(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I |
主分类号 |
B05C9/14(2006.01)I |
代理机构 |
广州三环专利代理有限公司 44202 |
代理人 |
温旭;郝传鑫 |
主权项 |
一种膜形成方法,该方法具有:沿着基板的表面的应涂布膜材料的被涂布区域的边缘,使膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化,从而形成外缘部,之后,在比所述外缘部更靠内侧的区域,使所述膜材料液滴化后进行涂布并使所述膜材料固化来形成内侧部,由此形成由所述外缘部及所述内侧部构成且上表面凹陷的单元层的工序;在所述单元层之上进一步堆积分别由所述外缘部及所述内侧部构成的其他单元层,且维持最上层的单元层的上表面呈凹陷形状的工序。 |
地址 |
日本东京都 |