发明名称 |
一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法 |
摘要 |
本发明公开了一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法,先在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,再进行微弧氧化处理;所述在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,具体包括以下步骤:(1)对高硅铝合金进行前处理;(2)在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr钝化膜:(2-1)制备钝化液:每升去离子水中含有1-5g单宁酸、1-4g氟钛酸、1-2g氟锆酸、1-4g偏钒酸钠;(2-2)将高硅铝合金浸泡在钝化液中,处理时间为1-4min;处理温度为25℃。本发明降低了硅对微弧氧化的不利影响,且工艺简单、高效、环保的条件下,取得缩短铸造铝硅合金微弧氧化过程起弧时间,降低单位能耗的效果。 |
申请公布号 |
CN104911664A |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
申请号 |
CN201510371995.7 |
申请日期 |
2015.06.29 |
申请人 |
华南理工大学 |
发明人 |
张果戈;董文潇;李文芳;于非 |
分类号 |
C25D11/04(2006.01)I;C25D11/16(2006.01)I |
主分类号 |
C25D11/04(2006.01)I |
代理机构 |
广州市华学知识产权代理有限公司 44245 |
代理人 |
陈文姬 |
主权项 |
一种降低高硅铝合金微弧氧化单位能耗的方法,其特征在于,先在高硅铝合金的表面制备Ti/Zr预钝化膜,再进行微弧氧化处理;所述高硅铝合金中硅的质量百分数>7%。 |
地址 |
510640 广东省广州市天河区五山路381号 |