多层膜减反射玻璃及其制备方法

摘要

本发明适用于显示行业及太阳能玻璃技术领域，公开了多层膜减反射玻璃及其制备方法。多层膜减反射玻璃包括透明基层，其上有折射率为2.1至2.5且厚为5至100nm的第一磁控溅射沉积层膜、折射率为1.3至1.6且厚为10至150nm的第二磁控溅射沉积层膜、折射率为2.1至2.5且厚为5至100nm的第三磁控溅射沉积层膜、折射率为1.3至1.6且厚为10至300nm的第四磁控溅射沉积层膜。制备方法包括以下步骤，制备透明基层并于其上依次沉积上述第一、第二、第三和第四磁控溅射沉积层膜。本发明实施例所提供的多层膜减反射玻璃及其制备方法，玻璃膜层更牢固，耐环境性能好，透过率高且成本低、可靠性高。

主权项

一种多层膜减反射玻璃，包括透明基层，其特征在于，所述透明基层上通过磁控溅射沉积有折射率为2.1至2.5且厚度为5至100nm的第一磁控溅射沉积层膜，所述第一磁控溅射沉积层膜上通过磁控溅射沉积有折射率为1.3至1.6且厚度为10至150nm的第二磁控溅射沉积层膜；所述第二磁控溅射沉积层膜上通过磁控溅射沉积有折射率为2.1至2.5且厚度为5至100nm的第三磁控溅射沉积层膜；所述第三磁控溅射沉积层膜上通过磁控溅射沉积有折射率为1.3至1.6且厚度为10至300nm的第四磁控溅射沉积层膜。