基板处理装置

摘要

提供可实现生产速度的提升及成本的削减，进而确实去除粒子的基板处理装置。;关于实施形态的基板处理装置，系具备接触基板(W)上的带电防止膜(Wa)的表面并进行相对移动，擦拭该带电防止膜(Wa)的表面的擦拭构件(11)。该擦拭构件(11)系具备成为基体的弹性体(11a)，与设置于该弹性体(11a)的表面，接触相对移动之带电防止膜(Wa)的表面的布(11b)。