发明名称 任意长度之带状射束离子源;A RIBBON BEAM ION SOURCE OF ARBITRARY LENGTH
摘要 本发明是离子源组件独特的且实质的改良,它能够产生一带状的离子束,其具有一被任意选取的幅宽尺度(breadth dimension),该被任意选取的幅宽尺度比该离子束的厚度尺度至少大10倍[且通常是大30倍],该离子束的幅宽尺度及厚度尺度和该离子束的移动的Z轴方向正交(即,成直角)。在它的所有实施例中,该改良的离子源将包含不少于两个的分开的构件部分:(i)一封闭的、实心壁的、棱柱型电弧放电室,其具有有限的宽度及深度尺度,且其同时具有一被任意地选取的且被预先决定的长度尺度,其大小可以小到80mm或者是超过3000mm;及(ii)一主要电子捕集组件,其包含至少一邻接地设置之产生磁场的轭次组件,其能够提供一可识别的四极磁场于一存在于该等电弧放电室壁的可测量的尺度内之被局限的空穴体积内部。; and (ii) A primary electron trap assembly which comprises at least an adjacently located magnetic field generating yoke subassembly able to provide a discernible quadrupole magnetic field internally within a confined cavity volume existing within the measurable dimensions of the arc discharge chamber walls.
申请公布号 TW201535453 申请公布日期 2015.09.16
申请号 TW103142191 申请日期 2014.12.04
申请人 怀特 尼可拉斯 WHITE, NICHOLAS R. 发明人 怀特 尼可拉斯 WHITE, NICHOLAS R.
分类号 H01J37/08(2006.01) 主分类号 H01J37/08(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 美国 US