发明名称 反应方法及其装置
摘要 一种反应方法及其装置,主要是藉由在一密闭腔室内盛装可导电超临界流体,配合通电作用,使得可导电超临界流体成为带电荷超临界流体,并适时搭配照光单元引入紫外线光或雷射光,或输入化学反应气体之运作,因而能产生三种功效:(1)利用带电荷超临界流体以溶解并去除材料表面或内部杂质,使得材料优化;(2)该密闭腔室也可以作为气相化学反应腔,高分子聚合或化学气相沉积在低温条件就可进行反应;(3)在紫外线光或雷射光的照射下,可使材料的熟化或纯化、优化过程在低温条件下就可以进行,缩短反应时间且使均匀度增加。
申请公布号 TW201534391 申请公布日期 2015.09.16
申请号 TW103108382 申请日期 2014.03.11
申请人 陈柏頴 发明人 陈柏頴;陈俋瑾;陈俋锡
分类号 B01J19/08(2006.01);C23C16/50(2006.01);C08G18/08(2006.01) 主分类号 B01J19/08(2006.01)
代理机构 代理人 高玉骏杨祺雄
主权项
地址 高雄市凤山区和德街63巷7号 TW