一种电容耦合型等离子体处理装置

摘要

本发明公开了一种电容耦合型等离子体处理装置，属于等离子体处理技术领域。本发明处理腔室顶部的等离子体射流放电阵列包括高压电极、阻挡介质平板和工作气流通道层。阻挡介质平板包括超材料基材层和附着在超材料基材层的金属线结构单元，在基材选定的情况下，通过改变金属线结构单元的图案、设计尺寸和/或金属线结构单元在空间中的排布获得想要的调制效果，即可改变超材料所在空间中每一单元的电磁参数ε和μ，可以设计出空间中每一点的等效电磁参数，相应地得到其等效电容，进而获得每个金属线结构单元自身的响应频率，从而可以精确控制超材料所在空间中每一点的调制，进而实现等离子体密度分布的多样化精细控制。

主权项

一种电容耦合型等离子体处理装置，包括处理腔室、处理气体供给单元、等离子体射流放电单元和高频电源，其特征在于：所述等离子体射流放电单元为设置于所述处理腔室顶部的等离子体射流放电阵列，所述等离子体射流放电阵列包括自上而下依次设置的高压电极、阻挡介质平板和工作气流通道层；所述高压电极位于阻挡介质平板上方并紧贴阻挡介质平板，工作气流通道层紧贴阻挡介质平板的下方并与所述处理气体供给单元相连通以输送用于生成等离子体的工作气体；所述阻挡介质平板包括超材料基材层和附着在所述超材料基材层上的若干金属线结构单元。