发明名称 |
用于在多种等离子体中以过程气体循环作等离子体处理的设备 |
摘要 |
根据本发明的用于等离子体处理的设备包括过程室以及具有回圈线路和回圈泵的回圈单元,过程室具有至少两个被过程气体穿流的等离子体过程区、气体进入部和气体排出部,气体进入部适合于将过程气体输送给至少两个等离子体过程区,气体排出部适合于将废气从过程室排除,其中,回圈单元适合于将废气中至少一部分供应到气体进入部中,并且其中,供应到气体进入部中的废气是从等离子体过程区中的至少两个中逸出的气体的混合物。通过混合来自等离子体过程区中的至少两个中的废气并且将废气再次供应到气体进入部中,使来自等离子体过程区中的至少两个中的过程气体的已经转化的组成部分,但也有还未转化的组成部分混合,并且因此实现了输送给等离子体过程区的过程气体的均匀化。这减少了由于等离子体过程在不同的等离子体过程区中的差异而产生的各个基底之间的等离子体处理的不均匀性。 |
申请公布号 |
TW201534753 |
申请公布日期 |
2015.09.16 |
申请号 |
TW104107116 |
申请日期 |
2015.03.06 |
申请人 |
霍赫劳股份有限公司 ROTH & RAU AG |
发明人 |
施莱姆 赫尔曼 SCHLEMM, HERMANN;克尔 米尔科 KEHR, MIRKO;安索格 艾瑞克 ANSORGE, ERIK;德克 丹尼尔 DECKER, DANIEL |
分类号 |
C23C16/455(2006.01);H01J37/32(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
任秀妍 |
主权项 |
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地址 |
德国 DE |