发明名称 一种条码表面UV转移镭射消除工艺
摘要 本发明涉及一种条码表面UV转移镭射消除工艺。印刷中涉及条码表面UV转移镭射工序时,镭射转移膜会因局部露空而降低使用寿命,条码表面有镭射光柱的影响,条码检测基本无法通过。本发明在进行UV镭射转移时使用全幅面印刷,形成UV转移镭射表层;在UV转移镭射表层局部印刷水性光油;局部上光采用单张纸凹版印刷机、水性光油进行加工,水性光油选用油墨,上光光油的厚度采用100线23μm;UV转移镭射表层上进行局部上光的上光面积小于镭射面积,特指条码框范围的矩形。本发明采用局部水性光油上光来消除条码表面镭射效果,从而保证条码标准达标,提高表面有镭射转移的条码的标准等级,还可大幅提高镭射转移膜的使用寿命。
申请公布号 CN103358738B 申请公布日期 2015.09.16
申请号 CN201310327648.5 申请日期 2013.07.31
申请人 陕西金叶印务有限公司 发明人 程斌;韩军;李文莉;苏元聪;金胜武;杨枢华;段新泽;雷幸格
分类号 B41M3/00(2006.01)I 主分类号 B41M3/00(2006.01)I
代理机构 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 代理人 李罡
主权项 一种条码表面UV转移镭射消除工艺,其特征在于:由以下步骤实现:步骤一:在含条码的印刷产品进行UV镭射转移时,使用全幅面印刷,形成UV转移镭射表层;步骤二:在UV转移镭射表层局部印刷水性光油,形成局部的水性光油表层,局部的水性光油表层可对光线进行漫反射,从而消除UV转移镭射表层的镭射反射效果;步骤二中,局部上光采用单张纸凹版印刷机、水性光油进行加工,水性光油选用油墨,上光光油的厚度采用100线23μm;步骤二中,UV转移镭射表层上进行局部上光的上光面积小于镭射面积,局部上光面积为矩形的条码框。
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