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经营范围
发明名称
微影系统;LITHOGRAPHIC SYSTEM
摘要
一种微影系统,其包含:一微影装置,其具有一尺寸比例改变投影系统;及一辐射源,其经组态以在一电浆形成部位处产生一EUV辐射发射电浆,该EUV辐射发射电浆在实质上垂直于该辐射源之一光轴之一平面中具有一狭长形式。
申请公布号
TW201535065
申请公布日期
2015.09.16
申请号
TW104104292
申请日期
2015.02.09
申请人
ASML荷兰公司 ASML NETHERLANDS B. V.
发明人
凡 沙特 珍 伯纳德 波莱奇莫斯 VAN SCHOOT, JAN BERNARD PLECHELMUS;卡帕露斯 密恩 CUPERUS, MINNE;丹 邦伊 威海明司 派特斯 DE BOEIJ, WILHELMUS PETRUS;亚库宁 安卓 米克哈洛维奇 YAKUNIN, ANDREI MIKHAILOVICH
分类号
G03F7/20(2006.01);H05G2/00(2006.01)
主分类号
G03F7/20(2006.01)
代理机构
代理人
林嘉兴
主权项
地址
荷兰 NL
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