| 发明名称 | 一种等离子体处理装置的载置台及对应等离子体处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种等离子体处理装置的载置台，其用于载置被处理基板，其特征在于，所述载置台至少包括：下部电极，所述下部电极为一电导体元件并至少包括第一部件以及第二部件，所述第一部件连接一射频电源，所述第二部件设置在所述第一部件的上方，所述第一部件和第二部件之间进一步设置有绝缘体层，使所述第一部件和第二部件不相互接触；基板固定装置，其设置于所述第二部件的上方，用于载置被处理基板。还提供一种等离子体处理装置，其包括上述等离子体处理装置用的载置台。本发明优选地使得下部电极变化为一块电容，从而使得等离子体在通过该下部电极后十分均匀地流向被处理基板，明显改善被处理基板的特性。 | ||
| 申请公布号 | CN102867723B | 申请公布日期 | 2015.09.16 |
| 申请号 | CN201110184641.3 | 申请日期 | 2011.07.04 |
| 申请人 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 发明人 | 徐朝阳;陶铮;尹志尧 |
| 分类号 | H01J37/32(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01J37/32(2006.01)I |
| 代理机构 | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人 | 吴世华;冯志云 |
| 主权项 | 一种等离子体处理装置的载置台，其用于载置被处理基板，其特征在于，所述载置台至少包括：下部电极，所述下部电极为一电导体元件并至少包括第一部件以及第二部件，所述第一部件连接一射频电源，所述第二部件连接另一射频电源，所述第二部件设置在所述第一部件的上方，所述第一部件和第二部件之间进一步设置有绝缘体层，使所述第一部件和第二部件不相互接触；基板固定装置，其设置于所述第二部件的上方，用于载置被处理基板。 | ||
| 地址 | 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号 | ||