一种化学槽的自动清洗装置

摘要

本发明公开了一种化学槽的自动清洗装置，包括清洗药液供给配管、清洗药液排放配管以及药液控制单元；清洗药液供给配管用于向化学槽输送去除颗粒杂质的清洗药液，清洗药液供给配管上具有控制清洗药液输送的输送开关；清洗药液排放配管用于排放化学槽内清洗后的清洗药液，清洗药液排放配管上具有控制清洗药液排放的排放开关；药液控制单元用于控制输送开关以及排放开关的启闭以及清洗药液的流量和清洗时间。本发明通过设置的清洗药液供给配管、清洗药液排放配管以及药液控制单元对化学槽内累积的颗粒杂质进行及时并彻底的清洗，避免了对后续化学槽内待清洗的硅片形成交叉污染，提高了硅片的洁净度。

主权项

一种化学槽的自动清洗装置，包括化学槽，其特征在于，还包括：清洗药液供给配管，设于所述化学槽的一端，用于向所述化学槽输送去除颗粒杂质的清洗药液，所述清洗药液供给配管上具有控制清洗药液输送的输送开关；清洗药液排放配管，设于所述化学槽的另一端，用于排放所述化学槽内清洗后的清洗药液，所述清洗药液排放配管上具有控制清洗药液排放的排放开关；药液控制单元，与所述输送开关以及排放开关连接，用于控制所述输送开关以及排放开关的启闭以及清洗药液的流量和清洗时间。