发明名称 sistema e método de revestimento a vácuo e tratamento a plasma
摘要 <p>sistema e método de revestimento a vácuo e tratamento a plasma. trata-se de um sistema de revestimento a vácuo e tratamento a plasma que inclui um cátodo magnétron com uma borda longa e uma borda curta. o polo magnético do magnétron resulta em uma barreira eletromagnética. pelo menos uma descarga por arco remoto é gerada separadamente do cátodo magnétron e em grande proximidade ao cátodo de modo que a mesma seja confinada em um volume adjacente ao alvo de magnétron. a descarga por arco remoto se estende paralelamente à borda longa do alvo de magnétron e é definida pela superfície do alvo em um lado e a barreira eletromagnética em todos os outros lados. existe uma capa de cátodo e capa de ânodo de descarga por arco remoto que se estendem sobre a descarga por arco e através da borda curta do cátodo magnétron. do lado de fora do conjunto de plasma fica um sistema magnético que cria linhas de campo magnético que se estendem para dentro e confinam o plasma na frente do substrato.</p>
申请公布号 BR102014026946(A2) 申请公布日期 2015.09.15
申请号 BR20141026946 申请日期 2014.10.28
申请人 VAPOR TECHNOLOGIES INC. 发明人 DAVID HUMENIK;EDWARD TAYLOR;VLADIMIR GOROKHOVSKY;WILLIAM GRANT
分类号 C23C14/35;C23C16/513 主分类号 C23C14/35
代理机构 代理人
主权项
地址