发明名称 |
sistema e método de revestimento a vácuo e tratamento a plasma |
摘要 |
<p>sistema e método de revestimento a vácuo e tratamento a plasma. trata-se de um sistema de revestimento a vácuo e tratamento a plasma que inclui um cátodo magnétron com uma borda longa e uma borda curta. o polo magnético do magnétron resulta em uma barreira eletromagnética. pelo menos uma descarga por arco remoto é gerada separadamente do cátodo magnétron e em grande proximidade ao cátodo de modo que a mesma seja confinada em um volume adjacente ao alvo de magnétron. a descarga por arco remoto se estende paralelamente à borda longa do alvo de magnétron e é definida pela superfície do alvo em um lado e a barreira eletromagnética em todos os outros lados. existe uma capa de cátodo e capa de ânodo de descarga por arco remoto que se estendem sobre a descarga por arco e através da borda curta do cátodo magnétron. do lado de fora do conjunto de plasma fica um sistema magnético que cria linhas de campo magnético que se estendem para dentro e confinam o plasma na frente do substrato.</p> |
申请公布号 |
BR102014026946(A2) |
申请公布日期 |
2015.09.15 |
申请号 |
BR20141026946 |
申请日期 |
2014.10.28 |
申请人 |
VAPOR TECHNOLOGIES INC. |
发明人 |
DAVID HUMENIK;EDWARD TAYLOR;VLADIMIR GOROKHOVSKY;WILLIAM GRANT |
分类号 |
C23C14/35;C23C16/513 |
主分类号 |
C23C14/35 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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