PHENOLIC POLYMERS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME

摘要

본 발명은 광산 불안정성 기 및 백본으로부터 떨어져 위치한 페놀기를 포함하는 신규 폴리머에 관한 것이다. 본 발명의 바람직한 폴리머는 화학증폭 포지티브 작용성 레지스트의 성분으로 유용하다.