发明名称 COATING AND DEVELOPING APPARATUS AND COATING AND DEVELOPING METHOD
摘要 <p>복수의 기판으로 이루어진 기판군의 각 기판을 순서대로 액처리하고, 상이한 프로세스 플로우가 동일한 액처리 모듈을 공유하고 있는 경우에, 처리 시간을 단축할 수 있는 도포 현상 장치 및 도포 현상 방법을 제공한다. 제1 약액을 이용하여 각 기판에 순서대로 제1 액처리를 행하고, 다시 각 기판에 제1 약액을 이용하여 순서대로 제2 액처리를 행하는 제1 액처리 모듈(M4)과, 제1 액처리를 행한 후, 제2 액처리를 행하기 전의 각 기판을 순서대로 일시적으로 저장하는 버퍼 모듈(BUF)과, 버퍼 모듈(BUF)로부터 취출한 후, 제2 액처리를 행하기 전의 각 기판에, 제2 약액을 이용하여 순서대로 제3 액처리를 행하는 제2 액처리 모듈(M5)을 갖는다. 기판군의 최후의 기판에 제1 액처리를 행한 후, 즉시 기판군의 최초의 기판에 제2 액처리를 행할 수 있도록, 최후의 기판에 행하는 제1 액처리가 종료하기 전에, 최초의 기판에 행하는 제3 액처리를 시작한다.</p>
申请公布号 KR101553082(B1) 申请公布日期 2015.09.14
申请号 KR20100088507 申请日期 2010.09.09
申请人 发明人
分类号 H01L21/027 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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