发明名称 染料敏化太阳能工作电极结构及其制作方法
摘要
申请公布号 TWI500173 申请公布日期 2015.09.11
申请号 TW100144096 申请日期 2011.12.01
申请人 修平学校财团法人修平科技大学 发明人 高铭政;陈宏仁;杨尚霖
分类号 H01L31/042;H01L31/0224;H01M14/00 主分类号 H01L31/042
代理机构 代理人 何崇民 台中市西区贵和街203号
主权项 一种染料敏化太阳能工作电极制作方法,其系于导电基板上设有由多孔性奈米结晶性之半导体材料及染料分子结合而成之导电单元,且该导电单元包含若干粒径小于10nm之第一半导体材料、若干粒径介于10~50nm之第二半导体材料、若干粒径介于50~100nm之第三半导体材料,该等不同粒径之半导体材料之制程分别为:A.以喷雾裂解法制作第一材料薄膜,将制作完成之半导体材料溶液(TiO2溶液)以喷雾披覆(Spray Coating)方法制作于导电基板上,再利用高温使导电基板上之溶液蒸发、凝胶化,而于导电基板上形成第一材料薄膜;B.以浸泡提拉法(Dip coating)制作第二材料薄膜,首先采用钛酸四正丁酯为前驱体,无水乙醇为溶剂,为了控制溶液的过程,采用乙醯丙酮为融合剂,再利用磁力搅拌器充分搅拌使其混合均匀,接着再利用拉膜机完成以下步骤:B1.将导电基板在溶胶中停留约1min后再提拉,速度为约10μm/s;B2.将导电基板放入约100℃烘箱中乾燥约10min;B3.将提拉后之导电基板进行高温烧结;B4.重复B2-B3步骤至少1次;B5.将导电基板置于溶胶中提拉至少1次;C.以网版印刷法制作第三材料薄膜,将洗净的导电基板置于平台上,在网版上滴加适量半导体材料浆料(二氧化钛浆料),再以软质刮刀刮进行网印动作,烤乾浆料后, 可得到第三材料薄膜。
地址 台中市大里区工业路11号