发明名称 | 曝光系统与曝光制程 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI499872 | 申请公布日期 | 2015.09.11 |
申请号 | TW102121568 | 申请日期 | 2013.06.18 |
申请人 | 群创光电股份有限公司 | 发明人 | 高克毅;陈赞仁;高振宽;李建兴 |
分类号 | G03F7/20;G03F9/00 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 代理人 | 刘正格 台北市中山区中山北路1段53巷20号之1 | |
主权项 | 一种曝光系统,系对复数组立面板进行曝光制程,各该组立面板具有一第一基板、一第二基板及一液晶层,该液晶层夹置于该第一基板与该第二基板之间,该曝光系统包括:一传输装置;二移动平台,设置于该传输装置上,该等组立面板包含一第一组立面板与一第二组立面板,且该等移动平台分别对应承载该第一组立面板及该第二组立面板;一第一组立面板装载装置及一第二组立面板装载装置,该第一组立面板装载装置进行该第一组立面板的装载与卸载,该第二组立面板装载装置进行该第二组立面板的装载与卸载;以及一光源模组,具有至少一发光元件,其中,该传输装置移动该等移动平台的至少其中之一或移动该光源模组,以使该发光元件所发出之光线照射于该组立面板上,且该第一组立面板装载装置及该第二组立面板装载装置系于该光源模组的相对两侧进行该第一组立面板与该第二组立面板的装载或卸载。 | ||
地址 | 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科学路160号 |