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经营范围
发明名称
基板处理方法及基板处理装置
摘要
申请公布号
TWI500086
申请公布日期
2015.09.11
申请号
TW101130969
申请日期
2012.08.27
申请人
斯克林集团公司
发明人
桥诘彰夫;赤西勇哉
分类号
H01L21/314;H01L29/78
主分类号
H01L21/314
代理机构
代理人
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
一种基板处理方法,系对矽基板施行处理者,其包括有:a)将矽基板一主面上的氧化矽膜予以除去的步骤;b)赋予矽烷化材料而对上述主面施行矽烷化处理,藉此使上述主面呈自然氧化膜成长被抑制之状态的步骤;以及c)在上述b)步骤后进行的步骤,且对上述主面形成矽锗膜的相关步骤。
地址
日本
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