| 主权项 |
一种曝光装置，系透过投影光学系统与液体以能量束将基板曝光，其特征在于：具备对前述投影光学系统之下供给液体之液浸系统、能彼此相对移动之第1、第2载台、具有驱动前述第1、第2载台之马达且以前述第1、第2载台分别与前述投影光学系统对向配置之方式藉由前述马达移动前述第1、第2载台之驱动系统、以及控制前述驱动系统对前述第1、第2载台之驱动之控制装置，前述控制装置，系以与前述投影光学系统对向配置之前述第1、第2载台之另一方对前述第1、第2载台之一方接近之方式，使前述第1、第2载台相对移动，且以将液浸区域实质地维持于前述投影光学系统下之同时由前述另一方载台代替前述一方载台而与前述投影光学系统对向配置之方式，在与前述投影光学系统之光轴正交之既定方向相对前述投影光学系统使前述接近后之第1、第2载台移动，并以前述液浸区域位于代替前述一方载台而与前述投影光学系统对向配置之前述另一方载台之包含量测构件之一部分之方式，使前述另一方载台移动，前述量测构件系透过前述投影光学系统与前述液浸区域之液体检测前述能量束。
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