发明名称 对位装置及对位方法
摘要
申请公布号 TWI500111 申请公布日期 2015.09.11
申请号 TW099120103 申请日期 2010.06.21
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 中村彰彦;桂川纯一;小针伦;佐佐木保
分类号 H01L21/683;H01L21/68 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种对位装置,系为具备有将对位对象物作吸着并作旋转之吸着旋转手段的对位装置,其特征为:在与上述吸着旋转手段作吸着之位置相异的位置处,系具备有与作旋转之上述对位对象物相接触并将作旋转之上述对位对象物作支持之支持手段。
地址 日本