发明名称 下层膜材料及图案形成方法
摘要
申请公布号 TWI499869 申请公布日期 2015.09.11
申请号 TW103119935 申请日期 2014.06.09
申请人 信越化学工业股份有限公司 发明人 畠山润;郡大佑;荻原勤
分类号 G03F7/11;C08G61/12;H01L21/027 主分类号 G03F7/11
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种下层膜材料,系使用于微影之光阻下层膜材料,其特征为:含有具选自于经取代或非经取代之苯酚酞、酚红、甲酚酞、甲酚红、百里酚酞中之1种以上之重复单元的酚醛清漆树脂;该重复单元以下列通式(1)表示; 式中,R1、R2为氢原子、酸不稳定基、环氧丙基、或碳数1~10之直链状、分支状或环状之烷基、醯基或烷氧基羰基;R3、R4、R6为氢原子、碳数1~10之直链状、分支状或环状之烷基、碳数2~10之烯基、或碳数6~10之芳基,也可以有羟基、烷氧基、醯氧基、醚基、或硫醚基,或为卤素原子、羟基、或碳数1~4之烷氧基;R5为氢原子、碳数1~6之直链状、分支状或环状之烷基、碳数2~10之直链状、分支状或环状之烯基、或碳数6~12之芳基,且也可以有羟基、烷氧基、醚基、硫醚基、羧基、烷氧基羰基、醯氧基、或-COOR或-OR基(R为内酯环、酸不稳定基或-R’-COOR”,R’为单键或伸烷基,R”代表酸不稳定基);X为-C(=O)-或-S(=O)2-,m、n、p、q、r为1或2。
地址 日本