发明名称 气体供给装置、热处理装置、气体供给方法及热处理方法
摘要
申请公布号 TWI499689 申请公布日期 2015.09.11
申请号 TW101115636 申请日期 2012.05.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 古屋治彦;岛裕巳;立野雄亮
分类号 C23C16/455;H01L21/324 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼
主权项 一种气体供给装置,包含一原料气体供给系统,该原料气体供给系统将由一原料储存槽内部之原料所产生的原料气体,利用载体气体供给至执行被处理物体之热处理的一处理容器之中,该气体供给装置包含:一载体气体通道,其包含设置于该载体气体通道之中的一开闭阀,该载体气体通道系用以将该载体气体导入该原料储存槽之中;一原料气体通道,其连接该原料储存槽和该处理容器,且在该原料气体通道之中设有一开闭阀,该原料气体通道系用以将该原料气体与该载体气体一起加以供给;一压力控制气体通道,在该压力控制气体通道之中设有一开闭阀,且该压力控制气体通道系连接至该原料气体通道以供给压力控制气体;及一阀控制单元,配置以控制该等开闭阀之每一者,以执行下列步骤:开始将该压力控制气体经由该压力控制气体通道及该原料气体通道的下游侧而供给至该处理容器之中,且同时开始将该原料气体由该原料储存槽利用该载体气体并经由该原料气体通道的上游侧及该下游侧而供给至该处理容器之中,其中该原料气体通道的该下游侧之压力由于该压力控制气体而上升,从而使该原料气体通道的该上游侧与该下游侧之间的差压在开始供给该原料气体时降低;及在执行该原料气体之供给时,停止供给该压力控制气体。
地址 日本