发明名称 改良膜厚度之不均匀性与粒子表现的CVD设备
摘要
申请公布号 TWI499688 申请公布日期 2015.09.11
申请号 TW099112587 申请日期 2010.04.21
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 崔恩宾;崔安青;黄柏纳L;盖叶颂T;恩盖叶安哈N;塞特辛恩M;陶献之
分类号 C23C16/455;C23C16/52 主分类号 C23C16/455
代理机构 代理人 蔡坤财 台北市中山区松江路148号11楼;李世章 台北市中山区松江路148号11楼
主权项 一种用于处理基材的设备,其包括:一处理腔室,其具有一下部组件以及一上部组件,该上部组件透过一铰合件以可移动式耦接该下部组件,其中该下部组件包括一腔室主体,该腔室主体具有配置在该腔室主体中的一基材支撑组件,且其中该上部组件包括一盖;以及一气体馈通件,其耦接至该腔室主体以及该盖,以助于一气体从一气体盘流至该处理腔室的内部,其中该气体馈通件包含一上部主体以及一下部主体,该上部主体从外部耦接(externally couple)该盖的一周边而该下部主体从外部耦接该腔室主体的一周边,使得该气体馈通件不会通过该腔室主体或该盖,其中该上部主体包括一个或多个上部通口,而该下部主体包括对应的一个或多个下部通口,且其中当该盖在关闭位置时,该一个或多个上部通口匹配该对应的一个或多个下部通口。
地址 美国
您可能感兴趣的专利