发明名称 | 液体处理装置 | ||
摘要 | |||
申请公布号 | TWI500076 | 申请公布日期 | 2015.09.11 |
申请号 | TW100129586 | 申请日期 | 2011.08.18 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 东岛治郎 |
分类号 | H01L21/30 | 主分类号 | H01L21/30 |
代理机构 | 代理人 | 周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 | |
主权项 | 一种液体处理装置,包含:旋转基体,用来使被处理基板以受到水平支持之状态旋转;及处理液供给部,对旋转之被处理基板的上表面不供给处理液,对其下表面供给处理液;该液体处理装置之特征在于:该旋转基体具有包围着该被处理基板周缘部之包围构件;该包围构件中,于该包围构件下表面侧形成用以藉由毛细管作用朝外方侧引出到达该被处理基板周缘部之处理液,以抑制处理液回绕至被处理基板上表面侧复数引导沟槽部,该复数引导沟槽部分别自内缘侧朝外方延伸并沿着该包围构件之周向彼此取出间隔配置。 | ||
地址 | 日本 |