エピタキシャルシリコン堆積用の高容量且つ低コストのシステムのためのガス注入器

摘要

【課題】太陽電池製造用の装置及び技法に関し、基板処理チャンバにおける使用のためのガス注入器を提供する。【解決手段】処理チャンバにおける使用のためのガス注入器は、処理チャンバ内へ第１プロセスガスのジェット流を供給するように構成されるガスオリフィスの第１セット、及び処理チャンバ内へ第２プロセスガスの層流を供給するように構成されるガスオリフィスの第２セットを含むことができ、ガスオリフィスの第１セットは、ガスオリフィスの第２セットの少なくとも２つのガスオリフィスの間に配置される。【選択図】図４Ｃ